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多層膜膜厚（GaAs/AlAs超晶格）

更新時間：2024-03-14

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廠商性質：經銷商

生產地址：

簡要描述：
GaAs/AIAs 超晶格多層膜膜厚標準物質可用于與多個厚度尺寸相關的設備校準，包括表面分析設備，如俄歇電子光譜儀、X 射線光電能譜儀及二次離子質譜儀的濺射速率校準;以及用于透射電鏡
品牌中國計量科學研究院供貨周期現貨
應用領域綜合

GaAs/AIAs 超晶格多層膜膜厚標準物質可用于與多個厚度尺寸相關的設備校準，包括表面分析設備，如俄歇電子光譜儀、X 射線光電能譜儀及二次離子質譜儀的濺射速率校準;以及用于透射電鏡

樣品制備RM 的 10 萬倍到 30 萬倍的中倍放大倍率校準。 

家采用分子束外延生長方法，在 GaAs(100)基底上生長每層膜厚名義量值為 10 nm 的 GaAs/AIAs 超晶格3周期，切割為 20 mm x20 mm 的正方形，經定值測量后采用鋁箔包裝袋真空包裝。org.c

二、溯源性及定值方法

采用掠入射 X 射線反射技術為樣品定值，此設備為計量校準裝置，角度溯源至多齒分度臺標準裝置，入射光波長溯源至單晶硅晶格參數。通過使用滿足計量學特性要求的測量方法和計量器具保證其量值溯源性。


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