| 品牌 | 中國計量科學研究院 | 供貨周期 | 現貨 |
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| 應用領域 | 綜合 | 1片 | 11.10nm |
本標準物質主要用于薄膜厚度測量和表面化學分析（深度剖析）儀器設備的檢定/校準、分析方法的確認與評價、技術仲裁測量以及測量質量控制等。一、 樣品制備本標準物質系通過原子層沉積技術在單晶硅基底上生長二氧化硅納米薄膜成批制備而成，切割形成正方形片狀樣品（10mm×10mm×0.7mm）。二、 溯源性及定值方法本標準物質采用兩種的不同原理方法（掠入射 X 射線反射測量和橢偏測量）進行定值，以兩種定值方法測量結果的總平均值作為標準值。通過使用滿足計量學特性要求的測量方法和計量器具，保證標準物質量值的溯源性。
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